Expansion und Investition in das TANIOBIS Chlorid-Portfolio
TANIOBIS errichtet eine neue Versuchs- und Produktionsanlage in Goslar
Die TANIOBIS GmbH investiert in ihre deutschen Standorte: zum einen in die Optimierung von Bestandsanlagen in Laufenburg, zum anderen in eine neue Versuchs- und Produktionsanlage Goslar. So möchte das Unternehmen zum einen den steigenden Marktanforderungen gerecht werden und gleichzeitig das bestehende Produktportfolio erweitern.
Den TANIOBIS-Standort in Goslar ergänzt zukünftig eine neue Versuchs- und Produktionsanlage. Darüber hinaus erweitert TANIOBIS damit seine Kapazitäten und Entwicklungsmöglichkeiten neuer Produkte. „Zusammen mit JX Advanced Metals sehen wir ein enormes Wachstumspotenzial im Bereich der Atomlagenabscheidung (ALD) und chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) für die nächste Halbleitergeneration“, erklärt Kazuhiko Iida, Vorsitzender der TANIOBIS-Gruppe. „Mit dem Ausbau unserer Kapazitäten in Goslar wollen wir nicht nur unsere Marktposition stärken, sondern auch flexibel auf die steigenden Anforderungen reagieren. Insbesondere im Bereich der Chloride sehen wir großes Potenzial – sowohl für JX als auch für TANIOBIS.“ Die optimierte Laufenburger Chloridanlage erfüllt eine Business Continuity Option und beide Anlagen-Standorte werden Nachfragespitzen zeitnah gerecht.
Hochreine Qualitäten: steigende Nachfrage erfordert Anpassung
Der Schwerpunkt der bestehenden Produktionsanlagen am TANIOBIS-Standort Laufenburg liegt bei Tantal- und Niobchlorid aller Qualitäten sowie Standardqualitäten des wolfram- und molybdänbasierten Portfolios. Hier sind zukünftig Optimierungen geplant. „Für uns war früh absehbar, dass sich die Nachfrage nach hochreinen Qualitäten stetig auf andere Elemente ausweiten wird. Deshalb galt es – neben der Optimierung der Laufenburger Anlagen – auch an unserem Standort in Goslar eine neue Versuchs- und Produktionsanlage zu errichten“, erläutert Dr. Ole Brettschneider, Leiter Business Development bei TANIOBIS.
Portfolio-Ausbau in Goslar: Hochleistungsmaterialien für generative KI
Die neue Chlorid-Anlage in Goslar ermöglicht die Entwicklung innovativer AMPERTEC® Chlorid-Verbindungen und die Optimierung bestehender Produkte. Mikroprozessoren und Speicherchips für Anwendungen im Bereich der generativen KI (Künstliche Intelligenz) bedürfen einer ständigen Verbesserung von Geschwindigkeit und Energieeffizienz. Chipentwickler setzen in den neuesten Chipgenerationen für feinste Leiterbahnen auf Abscheideverfahren basierend auf hochreinen Molybdän- und Wolframchloriden, deren Herstellung TANIOBIS in der Anlage in Goslar entwickelt und erprobt.
Der Betrieb der Anlage in Goslar ist zunächst auf die Entwicklung von Spezialprodukten des Wolfram- und Molybdänportfolios fokussiert und umfasst ferner Optimierungen bestehender Produktqualitäten und Prozesse sowie kundengetriebene Neuentwicklungen. Später sollen zusätzlich Bedarfsspitzen von Standardqualitäten gedeckt werden können, wofür die erforderlichen Qualifizierungsprozesse frühzeitig gestartet werden müssen.
Im Versuchsbetrieb entwickelt und testet TANIOBIS neue Prozesse für den Entwicklungsbedarf der Kunden.
