冶金用途タンタル粉末
高純度かつ非常に微細な粒径
工業生産におけるタンタルは、そのユニークな特性から多くの高性能製品に好まれる材料です。例えば、タンタルは密度が非常に高く、また優れた熱伝導性と電気伝導性を有します。融点は3,017℃で全ての金属の中で4番目に高い材料です。
このような独自の特性により、タンタルは光学およびエレクトロニクス産業分野で数多くの製品に最適な材料となります。
当社は、冶金用途向けに高品質のタンタル粉末を提供するリーディングカンパニーの一つです。当社のタンタル粉末は非常に微細な粒径と極めて高い純度である事が特徴です。当社は、機能性と価格で、お客様の期待に応えながら、高い品質を安定的に提供します。
スパッタリングターゲット用タンタルのリーディングサプライヤー
冶金向け高純度タンタル粉末は、スパッタリングターゲットの生産にも多く使用されており、タンタル粉末の用途先としては、コンデンサ、スーパーアロイに次ぎ3番目に高いアプリケーションです。当社はスパッタリングターゲット用のタンタル生産の主要サプライヤーです。タンタルスパッタリングターゲットは主に、高速データ処理用の半導体アプリケーションや家電業界におけるメモリーに使用されています。例えば、ロジックIC、フラッシュメモリー、DRAMモジュールなどです。
スパッタリングは、物理気相成長法（PVD）を用いて基板上に薄膜を堆積させるプロセスです。電子デバイスの小型化・高性能化が進む為には、半導体産業におけるスパッタリングターゲットが非常に重要です。より小さなトランジスタセルでも信号伝播速度を維持するために導電性の高い銅が、従来の回路経路に使われていたアルミニウムに取って代わりました。しかし銅はシリコンに拡散する特性があるため、チタンや窒化タンタルからなる材料で銅とシリコン間に拡散バリア層を形成する必要があります。タンタルスパッタリングターゲットはこの層を形成するために使用されます。当社は冶金用途向けに求められる高純度で非常に微細なタンタル粉末を製造しています。